Jämeda, keskmise ja peene ränidioksiidi suhe peaks olema 5:1:4. Ränikarbiidtelliste valmistamisel kasutatakse tavaliselt toorainena musta ränidioksiidi, mille keemiline koostis on järgmine: SiC 98,0%, vaba C 0,5%, Fe 0,2% ja vaba SiO2 0.6%. Tootmisprotsess varieerub sõltuvalt liimimismeetodist. Erinevate sidumismeetodite lihtsustatud protsess on järgmine:
Räninitriid{0}}seotud ränikarbiidtellised: jämedatest, keskmistest ja peentest ränikarbiidi osakestest ja peenest ränipulbrist moodustuv roheline keha toodetakse 1370 kraadi juures puhtas N2 gaasis, mille tulemuseks on räninitriid-seotud ränikarbiidi tellis koos 6 ja C{4}Si 2 ja C{4}}. 26 -Si3N4 maatriksina. Maatriksisse jääb väike kogus jääkräni ja SiO2N2; nende komponentide suhteline sisaldus varieerub olenevalt tootmisettevõttest.
Seotud ränikarbiidtellised: SiC, ränipulber ja süsinikupulber segatakse teatud vahekorras, vormitakse ja põletatakse redutseerivas atmosfääris 1400 kraadi juures. Enamikul juhtudel kasutatakse süsiniku manustamist ja põletamist. Põletamise ajal tekib teatud tüüpi SiC- -Si3N4 sidemega SiC tellis, mis koosneb SiC- -SiC karkassist ja peeneteralisest -SiC maatriksist. SiC- -SiC tekib põletamisel peene ränidioksiidi pulbri ja peene süsinikupulbri reaktsioonil; see toode sisaldab ka vähesel määral räni ja süsiniku jääkaineid.
Ränioksünitriidiga seotud ränikarbiidi tellised: seda tüüpi telliste koostises on peene ränidioksiidi pulbri osakaal väiksem kui ränikarbiidil.
